本设备适用于评估和控制在半导体生产中的外延过程并且以被使用在多种不同的材料上，　例如：Silicon, Germanium, III-V including III-Nitrides.
CVP 21 的净室和模块化的系统设计结构使得本系统可以高效率，准确的测量半导体材料（结构，层）中的掺杂浓度分布．选用合适的电解液与材料接触，腐蚀，从而得到材料的掺杂浓度分布。电容值电压扫描和腐蚀过程由软件全自动控制

CVP21的系统特点
• 坚固可靠的模块化系统结构 ．光学，电子和化学部分相对独立．
• 精确的测量电路模块
• 强力的控制软件，系统操作，使用简便
• 完善的售后服务体系